半导体废气处理工艺及设备有哪些
探讨半导体废气处理方法，告诉你半导体废气处理工艺及设备有哪些。
半导体废气处理是半导体行业必不可少的重要环节，它是指将半导体工业废气中的有害物质进行清除，以达到环保要求的过程。处理半导体废气的要求主要要求如下：
（1）废气中有害物质的浓度必须低于环保标准；
（2）废气中的有害物质种类必须少于现有的环保标准；
（3）废气中有害物质的实际浓度必须低于环保标准。
常用的半导体废气处理方法主要有：
（1）过滤法：过滤法通常是指将废气中的有害物质通过过滤器滤除，其原理是将废气中的有害物质过滤掉；
（2）吸附法：吸附法通常是指将废气中的有害物质通过吸附剂吸附，其原理是将废气中的有害物质与吸附剂结合；
（3）催化法：催化法通常是指将废气中的有害物质通过催化剂催化，其原理是将废气中的有害物质与催化剂反应，使其转化为无害的物质；
（4）光催化法：光催化法通常是指将废气中的有害物质通过光催化剂催化，其原理是将废气中的有害物质与光催化剂反应，使其转化为无害的物质；
（5）脱附法：脱附法通常是指将废气中的有害物质通过脱附剂脱附，其原理是将废气中的有害物质与脱附剂结合，使其脱附出来。
半导体废气处理设备主要有：
（1）过滤器：过滤器是用来过滤废气中有害物质的设备；
（2）吸附塔：吸附塔是用来将废气中的有害物质吸附的设备；
（3）催化器：催化器是用来将废气中的有害物质催化的设备；
（4）光催化器：光催化器是用来将废气中的有害物质光催化的设备；
（5）脱附塔：脱附塔是用来将废气中的有害物质脱附的设备。
以上就是有关半导体工艺废气处理的基本原理、处理要求、常用处理方法及处理设备等内容，有效的半导体废气处理有助于提升半导体行业的环保水平，保护环境。
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